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Solange die Besetzung im Leitungsband bzw. im Valenzband in guter Näherung mit Hilfe der Boltzmann-Verteilung beschrieben werden kann (Fall des nicht entarteten Halbleiters), gilt auch für dotierte Halbleiter das Massenwirkungsgesetz:
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(337) |
Eine etwas kompliziertere Neutralitätsbedingung regelt wieder die Lage des Fermi-Niveaus
im
homogen dotierten Halbleiter; die negative Ladungsträgerdichte muss
gleich der positiven Ladungsträgerdichte sein:
| (338) |
wobei für die Störstellendichte gilt:
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(339) |
bezeichnt dabei die Anzahldichte der nicht ionisierten Donatoren bzw. Akzeptoren. Für Störstellenkonzentrationen von
, wie sie für p- bzw. n-Dotierung üblich sind, nicht aber für `hohe Dotierungen'
oder
(
), gilt in guter Näherung:
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(340) | ||
| und analog |
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(341) |
Der allgemeine Fall, wo gleichzeitig p- und n-Dotierung vorliegt, ist nur numerisch lösbar, reine n- oder p-Dotierung kann (mit den oben angegebenen Formeln) diskutiert werden. Für die n-Dotierung lautet die Lösung:
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(342) |
sie beschreibt für kleine Temperaturen das Regime der Störstellenreserve, dann den Erschöpfungszustand (der
Donatoren) und für hohe Temperaturen den Bereich der intrinsischen Trägerkonzentration. Die Lage der
Fermi-Energie verhält sich entsprechend: für
liegt sie in der Mitte
zwischen
und der Leitungsbandunterkante
, reicht im mittleren Temperaturbereich von
weg und endet im intrinsischen Bereich in der Mitte zwischen
und
, also
auf
.
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Die experimentelle Bestimmung der Ladungsträgerdichten in Abhängigkeit von der Temperatur geschieht unter Benutzung des Hall-Effekts.
Bei Dotierungskonzentrationen z.B. von
bei Si
(
bzw.
) erreicht bzw. überschreitet man die sog. kritische Konzentration: die
Donatoren bzw. Akzeptoren `sehen' einander. Angeregte Störstellen-Zustände liegen unter
oder über
und die Energielücke des Halbleiters wird um einige
kleiner, gleichzeitig werden weniger Störatome ionisiert, als es bei der entsprechenden
Temperatur zu erwarten wäre.
Copyright by Othmar Marti and Alfred Plettl, 2007-08-14